本文へ移動

TiC-CVD 概要

cvd説明

CVD法

 
CVD法とは、Chemical Vapor Deposition の略称で、Ticl(四塩化チタン)がH(水素)によって反応部へ運ばれ、別のメタン流と混合されて、1000℃前後に加熱された母材の表面層に銀色のTiC(炭化チタン)を生成させるものです。
 
 CVDによりセラミック皮膜をコーティングされた金属表面層は、硬度HV3200程度となり、クロムメッキ・窒化法・PVD法・と比べて、耐摩耗性・耐熱性・耐剥性及び、密着強度に優れ金型等では、その耐用寿命を飛躍的に延ばす事が出来るようになりました。
 
 当社のTiC皮膜は、強靭な耐摩耗性に加え、独自の方法により更に耐酸化性を上げる事に成功。
高い耐酸化性と密着強度の強い皮膜は、当社のTiCの最大の特徴であり、順調に実績を上げ、お客様から高い評価を頂いております。
 
 

CVD装置
  

・有効ゾーン    Φ300 X 830
 
・納期           1週間
 
・膜厚         6~8μ
 
・硬度      HV3200~3500

超大型CVD装置
 
 
・有効ゾーン   Φ600 X 510
 
・納期         要相談
 
・膜厚         6~8μ
 
・硬度     HV3200~3500
 
 
TOPへ戻る